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Sobre a proteção das Invenções


A proteção das invenções pode ser assegurada através de:

  • Patentes ou Modelos de Utilidade

Se desenvolveu uma solução nova para um problema técnico específico e pretende obter um exclusivo sobre a mesma, as modalidades de propriedade industrial adequadas poderão ser a Patente e o Modelo de Utilidade.
As Patentes e os Modelos de Utilidade protegem qualquer invenção em todos os domínios da tecnologia, quer se trate de produtos ou processos, bem como de processos novos de obtenção de produtos, substâncias ou composições já conhecidos.
Os Modelos de Utilidade protegem as invenções por um procedimento mais simplificado e acelerado face ao das Patentes. No entanto, excluem-se da possibilidade de proteção por esta via as invenções que incidam sobre matéria biológica ou sobre substâncias ou processos químicos ou farmacêuticos.

Mas atenção! Nem todas as invenções podem ser protegidas.

Não podem ser protegidas invenções:

  • Que não sejam novas (que façam parte do estado da técnica ou arte);
  • Que não possuam atividade inventiva (que, tendo em conta o estado da técnica, sejam óbvias para um técnico especializado ou que não apresentem vantagens para o fabrico ou utilização do produto ou processo em causa);
  • Que não tenham uma aplicação industrial.

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Topografias de Produtos Semicondutores
Uma Topografia de um Produto Semicondutor é o conjunto de imagens relacionadas, quer fixas quer codificadas, que representem a disposição tridimensional das camadas de que o produto se compõe e em que cada imagem possui a disposição, ou parte da disposição, de uma superfície do mesmo produto, em qualquer fase do seu fabrico.
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Certificados Complementares de Proteção
Um Certificado Complementar de Proteção prolonga, até um período máximo de 5 anos, a proteção conferida por uma patente-base, para um determinado produto, medicamento ou fitofarmacêutico (desde que esse produto esteja protegido na referida patente base), de modo a compensar o período que demorou a autorização de introdução no mercado (AIM).
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